G-L110
G-L110 ATO 锑掺杂氧化锡是一类透明导电、透明抗静电与近红外调控材料，可用于透明导电膜、抗静电涂层、透明隔热涂层和功能复合材料样品验证。
透明与近红外反射隔热方案
透明导电、抗静电与近红外调控材料。
功能方向
透明导电
ESD 静电防护
红外吸收
NIR 热管理
应用体系
电子显示与 ESD 防护
高透光 IR 管理与节能涂层
激光打标与 LDS
能源与先进器件
Product Portfolio Matrix
基础参数
中文品名 Product Name CN
G-L110
颜色与形态 Physical Form
浅青灰色粉体
pH值 pH Value
2.01
水分 Moisture 105°C
1.42%
BET比表面积 BET Surface Area
48.8484 m²/g
激光粒度 Laser Diffraction
D50 25.374 μm D10 1.938 · D90 103.348 μm
一次粒径 Primary Particle Size
≈ 10 nm 级
标称氧化物比例 Nominal Oxide Ratio
SnO₂:Sb₂O₃ = 90:10 | 95:5 | 85:15
Application Areas
应用面详解
ELECTRONICS · DISPLAYS · ESD PROTECTION
电子显示与 ESD 防护
用于触控显示、LCD/OLED 抗静电层、透明导电涂层、电子封装及设备外壳静电耗散；亦可评估柔性电子与可穿戴器件界面。
HIGH-TRANSPARENCY IR MANAGEMENT
高透光 IR 管理与节能涂层
以可见光透过与近红外屏蔽协同为目标，用于建筑玻璃、汽车车窗、航空航天透明件、智能窗、隔热膜及耐久节能涂层。
LASER MARKING · LASER DIRECT STRUCTURING
激光打标与 LDS
可作为 IR/NIR 吸收功能材料，用于塑料激光打标、LDS 选择性活化及激光辅助加工；需结合波长、树脂体系和添加量验证。
ENERGY · ADVANCED DEVICES
能源与先进器件
面向太阳能电池界面、电致变色器件、传感器、储能部件和功能膜的材料研究与配方开发，需按具体器件体系完成验证。
材料机理与应用价值
Material Mechanism & Application Value
01
透明导电
TRANSPARENT CONDUCTIVITY
透明导电与静电耗散协同设计
Transparent conductivity and ESD controlG-L110 可用于透明导电涂层、抗静电薄膜、电子显示界面和设备外壳等场景。通过控制添加量、分散粒径与成膜状态，可在透光外观、电阻范围和表面稳定性之间建立平衡。
应用建议：用于 ESD 或透明导电体系时，建议同步评估树脂/溶剂体系、涂层厚度、雾度、透光率、表面电阻及耐候稳定性。
02
近红外调控
NIR MANAGEMENT
近红外吸收驱动热管理与激光响应
NIR absorption supports thermal and laser-response applicationsG-L110 对 IR/NIR 能量具有吸收响应，可服务于透明隔热、节能涂层、智能窗、激光打标与 LDS 等方向。材料的吸收效率、透明度与标识效果，需要结合波长、基材、添加量和加工窗口综合优化。
验证边界：近红外屏蔽、光热管理和激光响应效果不宜只看单一材料参数，应以最终制品的透光、隔热、色相、附着与可靠性测试为准。
G-L110
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